国家知识产权局信息显示，格科微电子（上海）有限公司申请一项名为“图像传感器及其形成方法”的专利，公开号CN122138489A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种图形传感器的形成方法，包括：提供衬底；刻蚀所述衬底，在所述衬底中形成沟槽；在所述沟槽内形成外延掺杂层形成光电二极管之前，对所述沟槽表面进行预处理，使所述沟槽界面处的部分衬底中的离子掺杂浓度梯度分布发生改变，以减少所述光电二极管的PN结界面附近掺杂离子在后续工艺流程中扩散而产生的互补偿，从而提高所述光电二极管的满阱容量。
天眼查资料显示，格科微电子（上海）有限公司，成立于2003年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6259.722万美元。通过天眼查大数据分析，格科微电子（上海）有限公司共对外投资了15家企业，参与招投标项目20次，财产线索方面有商标信息69条，专利信息1117条，此外企业还拥有行政许可45个。
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